[发明专利]集成电路版图构造方法有效
| 申请号： | 200610147330.9 | 申请日： | 2006-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN101201854A | 公开（公告）日： | 2008-06-18 |
| 发明（设计）人： | 裴建军 | 申请（专利权）人： | 上海华虹NEC电子有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人： | 顾继光 |
| 地址： | 201206上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种集成电路版图构造方法，在现有的方法中调用单元库版图的步骤之前，加入如下步骤：在所述单元库版图的外围设置作为标识层的单元库外边框，所述单元库外边框到所述单元库版图中图形的最短距离大于或等于该版图层间最小距离的1/2。本发明集成电路版图构造方法，步骤简单，性能可靠，根据所调用的单元库版图，能够准确的构造出符合设计规则的版图，大大提高了版图构造的工作效率。 | ||
| 搜索关键词： | 集成电路 版图 构造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种集成电路版图构造方法，包括如下步骤：(1)设定构造版图的设计规则；(2)调用单元库版图；(3)将所调用的单元库版图进行组合，构造出版图；(4)对构造出的版图进行检查，确定该版图是否符合先前设定的设计规则，如果符合，版图构造步骤结束；如果不符合，回到第(1)步或者第(3)步；其特征在于，在调用单元库版图之前，还包括如下步骤：在所述单元库版图的外围设置作为标识层的单元库外边框，所述单元库外边框到所述单元库版图中图形的最短距离大于或等于该版图层间最小距离的1/2。
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