[发明专利]对曝光位置标记的位移进行检测的方法无效
| 申请号： | 200610142716.0 | 申请日： | 2006-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN101097410A | 公开（公告）日： | 2008-01-02 |
| 发明（设计）人： | 藤田睦实 | 申请（专利权）人： | 富士通株式会社 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 李辉;吕俊刚 |
| 地址： | 日本神奈*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种对曝光位置标记的位移进行检测的方法。这些曝光位置标记由以内四边形图案和外四边形图案组成的第一图案和被形成为其内边缘和外边缘被形成为四边形图案的矩形框的第二图案构成。第一图案和第二图案被形成为使得第一图案和第二图案的中心位置匹配并使第二图案被设置在第一图案的内四边形图案和外四边形图案之间的区域内。通过计算以下测量值的平均值来确定曝光位置的位移：通过检测第一图案的内四边形图案和作为第二图案的内边缘的四边形图案的中心位置之间的位移而得到的测量值；和通过检测第一图案的外四边形图案和作为第二图案的外边缘的四边形图案的中心位置之间的位移而得到的测量值。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 位置 标记 位移 进行 检测 方法 | ||
【主权项】：
1、一种对曝光位置标记的位移进行检测的方法，该方法对在一在前工艺和一在后工艺中形成在工件上的多个曝光位置标记进行检测，并通过所述曝光位置标记的位移来检测曝光位置的位移，其中，所述曝光位置标记由第一图案和第二图案构成，所述第一图案由内四边形图案和外四边形图案组成，所述第二图案被形成为矩形框，该矩形框的内边缘和外边缘被形成为四边形图案，在所述在前工艺和所述在后工艺中，所述第一图案和所述第二图案之一被形成为使得所述第一图案和所述第二图案的中心位置相匹配并且使得所述第二图案被设置在所述第一图案的内四边形图案和外四边形图案之间的区域内，并且，基于所述曝光位置标记的图像的检测结果，通过计算以下测量值的平均值来确定所述曝光位置的位移：通过检测所述第一图案的内四边形图案的中心位置与作为所述第二图案的内边缘的四边形图案的中心位置之间的位移而得到的测量值；以及通过检测所述第一图案的外四边形图案的中心位置与作为所述第二图案的外边缘的四边形图案的中心位置之间的位移而得到的测量值。
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