[发明专利]显示元件的形成方法及其结构无效
申请号: | 200610108007.0 | 申请日: | 2006-07-21 |
公开(公告)号: | CN1888983A | 公开(公告)日: | 2007-01-03 |
发明(设计)人: | 李刘中;潘信桦;黄国有 | 申请(专利权)人: | 友达光电股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F7/00;H01L21/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陶凤波;侯宇 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明提供一种形成显示元件的方法,包括:于基板上形成第一金属、绝缘层、第二金属、保护层,并且形成有机光致抗蚀剂层于保护层上。接着,对有机光致抗蚀剂层进行光刻步骤,以形成图案化有机光致抗蚀剂层。接着,以图案化有机光致抗蚀剂层作为掩模,执行干蚀刻步骤,使得在第一金属上形成第一接触孔和在第二金属上形成第二接触孔,并分别曝露出第一金属和第二金属。接下来,采用热处理的方式,处理图案化有机光致抗蚀剂层,使得图案化有机光致抗蚀剂层产生相变,并朝向第一接触孔的侧壁和第二接触孔的侧壁流动,且覆盖在第一接触孔和第二接触孔的侧壁上。通过图案化有机光致抗蚀剂层覆盖接触孔的侧壁,以控制接触孔侧壁的倾斜角度。 | ||
搜索关键词: | 显示 元件 形成 方法 及其 结构 | ||
【主权项】:
1、一种形成显示元件的方法,包括:提供基板;形成第一金属于该基板上方;形成绝缘层于该基板上,并覆盖该第一金属;形成第二金属于该绝缘层上;形成保护层,覆盖于该绝缘层和该第二金属上;形成图案化有机光致抗蚀剂层,以覆盖该保护层;以该图案化有机光致抗蚀剂层作为掩模,执行蚀刻步骤,以形成第一接触孔位于该第一金属上方,和第二接触孔位于该第二金属上方;热处理该图案化有机光致抗蚀剂层,使该图案化有机光致抗蚀剂层朝向该第一接触孔的一个侧壁,和该第二接触孔的一个侧壁流动,并覆盖和固化该第一接触孔的该侧壁和该第二接触孔的该侧壁;并且形成电极层位于该图案化有机光致抗蚀剂层上,通过该第一接触孔和该第二接触孔分别与该第一金属和该第二金属连接。
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