[发明专利]显示元件的形成方法及其结构无效

专利信息
申请号: 200610108007.0 申请日: 2006-07-21
公开(公告)号: CN1888983A 公开(公告)日: 2007-01-03
发明(设计)人: 李刘中;潘信桦;黄国有 申请(专利权)人: 友达光电股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F7/00;H01L21/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 陶凤波;侯宇
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种形成显示元件的方法,包括:于基板上形成第一金属、绝缘层、第二金属、保护层,并且形成有机光致抗蚀剂层于保护层上。接着,对有机光致抗蚀剂层进行光刻步骤,以形成图案化有机光致抗蚀剂层。接着,以图案化有机光致抗蚀剂层作为掩模,执行干蚀刻步骤,使得在第一金属上形成第一接触孔和在第二金属上形成第二接触孔,并分别曝露出第一金属和第二金属。接下来,采用热处理的方式,处理图案化有机光致抗蚀剂层,使得图案化有机光致抗蚀剂层产生相变,并朝向第一接触孔的侧壁和第二接触孔的侧壁流动,且覆盖在第一接触孔和第二接触孔的侧壁上。通过图案化有机光致抗蚀剂层覆盖接触孔的侧壁,以控制接触孔侧壁的倾斜角度。
搜索关键词: 显示 元件 形成 方法 及其 结构
【主权项】:
1、一种形成显示元件的方法,包括:提供基板;形成第一金属于该基板上方;形成绝缘层于该基板上,并覆盖该第一金属;形成第二金属于该绝缘层上;形成保护层,覆盖于该绝缘层和该第二金属上;形成图案化有机光致抗蚀剂层,以覆盖该保护层;以该图案化有机光致抗蚀剂层作为掩模,执行蚀刻步骤,以形成第一接触孔位于该第一金属上方,和第二接触孔位于该第二金属上方;热处理该图案化有机光致抗蚀剂层,使该图案化有机光致抗蚀剂层朝向该第一接触孔的一个侧壁,和该第二接触孔的一个侧壁流动,并覆盖和固化该第一接触孔的该侧壁和该第二接触孔的该侧壁;并且形成电极层位于该图案化有机光致抗蚀剂层上,通过该第一接触孔和该第二接触孔分别与该第一金属和该第二金属连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于友达光电股份有限公司,未经友达光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200610108007.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top