[发明专利]清洁溅镀机的方法有效
| 申请号： | 200610081716.4 | 申请日： | 2006-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN1844447A | 公开（公告）日： | 2006-10-11 |
| 发明（设计）人： | 蔡吉雄;王国庭;陈伯威 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波;侯宇 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种清洁溅镀机的方法。溅镀机包含反应室、溅镀阴极、基座与载具。溅镀阴极设置于反应室内，且其具有溅镀靶。基座置于反应室内并相对应于溅镀靶，用以承载基板。载具用于将基板传送进入反应室。本方法包含提供玻璃以外材质的监控基板，其具有粗糙面，接着利用载具将此监控基板传送进反应室，并置于基座上，进行溅镀工艺，然后用载具将监控基板移出反应室，回收处理监控基板。 | ||
| 搜索关键词： | 清洁 溅镀机 方法 | ||
【主权项】：
1.一种清洁溅镀机的方法，该溅镀机至少包含反应室、溅镀阴极、基座以及载具，该溅镀阴极设置于该反应室内，且其正面具有溅镀靶，该基座置于该反应室内并相对应于该溅镀靶，用以承载基板，该载具用于将该基板传送进入该反应室，该方法包含下列步骤：提供监控基板，其具有粗糙面；利用该载具将该监控基板传送进入该反应室，并置于该基座上；进行至少一溅镀工艺；利用该载具将该监控基板从该反应室中移出；以及对该监控基板进行回收处理。
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