[发明专利]光刻装置和定位装置无效
| 申请号： | 200610075205.1 | 申请日： | 2006-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN1854901A | 公开（公告）日： | 2006-11-01 |
| 发明（设计）人： | M·H·M·比姆斯;J·萨凯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种光刻装置，其包括保持基底的基底台，参考结构以及测量基底台相对参考结构的位置的测量系统。该测量系统包括用于测量基底台相对中间结构的位置的第一测量系统，和用于测量中间结构相对参考结构的位置的第二测量系统。该中间结构与驱动机构连接或可与驱动机构连接，以驱动基底台。基底台和中间结构之间的间距以及中间结构和参考结构之间的间距可以很小，从而获得高度精确的位置测量。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 定位 | ||
【主权项】：
1.一种光刻装置，包括：工作台，其包括构造成保持基底的基底台；参考结构；以及测量系统，用于测量工作台相对参考结构的位置，其中该测量系统包括：第一测量系统，用于测量工作台的一部分相对中间结构的位置，和第二测量系统，用于测量中间结构相对参考结构的位置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200610075205.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
