[发明专利]非易失性存储器及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200610074891.0 申请日: 2006-04-25
公开(公告)号: CN101064314A 公开(公告)日: 2007-10-31
发明(设计)人: 陈威仁;杨立民;王炳尧 申请(专利权)人: 力晶半导体股份有限公司
主分类号: H01L27/115 分类号: H01L27/115;H01L29/788;H01L21/8247;H01L21/336
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 陶凤波;侯宇
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提供了一种非易失性存储器,具有下列构件:多个隔离结构平行设置于基底中,以定义出有源区,并往第一方向延伸;多个控制栅极平行设置于基底上,并往第二方向延伸,其中第二方向与第一方向交错;多个筒状浮置栅极设置于控制栅极下方,且位于相邻两隔离结构之间的有源区上,各浮置栅极具有凹陷部,其中各控制栅极填满各筒状浮置栅极的凹陷部,且覆盖各筒状浮置栅极外侧侧壁;穿隧介电层设置于各筒状浮置栅极与基底之间;栅间介电层设置于各控制栅极与各筒状浮置栅极之间。
搜索关键词: 非易失性存储器 及其 制造 方法
【主权项】:
1、一种非易失性存储器,包括:多个隔离结构,平行设置于基底中,以定义出有源区,并往第一方向延伸;多个控制栅极,平行设置于该基底上,并往第二方向延伸,该第二方向与该第一方向交错;多个筒状浮置栅极,设置于该些控制栅极下方,且位于相邻两隔离结构之间的该有源区上,各该些浮置栅极具有凹陷部,其中各该些控制栅极填满该些凹陷部,且覆盖各该些筒状浮置栅极外侧侧壁;穿隧介电层,设置于各该些筒状浮置栅极与该基底之间;以及栅间介电层,设置于各该些控制栅极与各该些筒状浮置栅极之间。
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