[发明专利]一种提高芯片亮度的方法无效

专利信息
申请号: 200610030769.3 申请日: 2006-09-04
公开(公告)号: CN101140962A 公开(公告)日: 2008-03-12
发明(设计)人: 冯雅清;叶国光;梁伏波;朱思远;黄力伟 申请(专利权)人: 上海蓝宝光电材料有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 上海申汇专利代理有限公司 代理人: 翁若莹
地址: 20161*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种提高芯片亮度的方法,倒装焊芯片的电极与硅热沉芯片贴合,其特征在于,将倒装焊芯片的出光表面——蓝宝石衬底和透明电极氧化铟锡的表面制作光子晶体结构,光子晶体结构有助于降低全反射,从而使得出光亮度提高,使得光取出效率提升50%-90%,在350毫安的电流驱动下可以得到比一般倒装焊芯片多出90%的亮度。
搜索关键词: 一种 提高 芯片 亮度 方法
【主权项】:
1.一种提高芯片亮度的方法,倒装焊芯片(8)的电极与硅热沉芯片(9)贴合,其特征在于,在倒装焊芯片(8)的蓝宝石衬底(10)的表面(11)上制作光子晶体,其方法为:(1)首先在倒装焊芯片(8)的蓝宝石衬底(10)的表面(11)上贴-层0.2微米-0.8微米厚的保护膜层;(2)然后在保护膜层上涂布光刻胶,用激光曝光机对光刻胶曝光;(3)在光刻胶的保护下通过电感偶合式反应离子刻蚀机刻蚀保护膜层,达到在蓝宝石衬底的表面形成光子晶体结构(13),即圆柱形小岛的间距a为0.4微米-1.2微米,圆柱体的高b为0.2微米-0.8微米,圆柱体的直径c为0.2微米-1.0微米;或晶体结构(14),即圆柱形洞的间距f为0.4微米-1.2微米,圆柱形洞的深度e为0.2微米-0.8微米,圆柱形洞的直径d为0.2微米-1.0微米。
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