[发明专利]光刻投影物镜远心测量方法有效
| 申请号： | 200610029273.4 | 申请日： | 2006-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN1888981A | 公开（公告）日： | 2007-01-03 |
| 发明（设计）人： | 杨之文 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 201203上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光刻投影物镜远心测量方法，利用一可起到孔径光阑作用的专用远心掩模，并在该远心掩模上设置至少一个用以测量视场内远心的通光孔，通过在不同的成像位置测量物体的像来确定通过该点的主光线，从而计算获得远心；测量方法包括：传感器扫描测量法、曝光测量法。其计算方法是，利用可代表一个通光孔在x或y方向的两条边的50％最大光强位置，计算这两个位置的中心点坐标，根据测量高度，利用线性直线方程，线性拟合出一条经过通光孔中心点的光线轨迹，该光线轨迹与光轴的夹角即为远心度。利用本发明的测量方法可快速地测量出光刻机投影物镜的远心度并获得更高的测量精度。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 投影 物镜 测量方法 | ||
【主权项】：
1、一种光刻投影物镜远心测量方法，其特征在于：利用一可起到孔径光阑作用的专用远心掩模，并在该远心掩模上设置至少一个用以测量视场内远心的通光孔，通过在不同的成像位置测量物体的像来确定通过该点的主光线，从而计算获得远心；所述的测量方法包括：可获得更高精度的传感器扫描测量法、可快速测量远心的曝光测量法。
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