[发明专利]CMP工艺中的灵活冲洗步骤无效
| 申请号： | 200580040730.3 | 申请日： | 2005-09-15 |
| 公开（公告）号： | CN101065218A | 公开（公告）日： | 2007-10-31 |
| 发明（设计）人： | 菲特·恩古耶恩霍安 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;B24B49/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 朱进桂 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及化学机械平面化(CMP)，并且涉及用于执行这种CMP工艺的设备。根据本发明的方法和设备或者通过调整冲洗步骤的时间段，使得每一个冲洗步骤实质上同时结束，而至少最小化CMP工艺期间两个随后的抛光步骤之间晶片暴露于空气的时间。从而，可以避免或者至少最小化诸如侵蚀之类的损坏，并且可以获得高质量的器件。 | ||
| 搜索关键词： | cmp 工艺 中的 灵活 冲洗 步骤 | ||
【主权项】：
1.一种具有至少两个抛光平台(13、15、17)的化学机械平面化设备(10)，每一个所述抛光平台均具有用于同时执行处理步骤的装置，每一个步骤均包括抛光步骤，并且所述处理步骤的至少一个还包括所述抛光步骤之后的冲洗步骤，每一个处理步骤具有总处理步骤时间，以及所述设备(10)还包括控制装置，适合于设定总处理步骤时间，使得每一个抛光平台(13、15、17)上的处理步骤实质同时地结束。
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