[发明专利]叠层薄膜在审

专利信息
申请号: 200580040631.5 申请日: 2005-09-26
公开(公告)号: CN101065246A 公开(公告)日: 2007-10-31
发明(设计)人: 高田育;柳桥真人;牛岛正人 申请(专利权)人: 东丽株式会社
主分类号: B32B27/30 分类号: B32B27/30;B32B27/36
代理公司: 北京市中咨律师事务所 代理人: 段承恩;田欣
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种叠层薄膜,其特征在于,是在热塑性树脂薄膜的至少一面上,设置由组合物(A)、环氧系交联剂(B)、具有碳数为18~25的烷基链的丙烯酸系树脂(C)形成的叠层膜而成的叠层薄膜,组合物(A)为至少含有聚噻吩和聚阴离子的组合物和/或含有聚噻吩衍生物和聚阴离子的组合物,并且,在叠层膜中,相对于组合物(A)和交联剂(B)和/或其反应生成物的合计100重量份,含有15~100重量份的上述的丙烯酸系树脂(C),并且,该叠层薄膜的至少一面的3维中心线平均粗糙度(SRa)为3~50nm,并且,在该叠层薄膜中所含有的平均粒径为100μm以上的内部异物少于10个/m2。由此,可以形成为具有以往达不到的高水平的导电性、脱模性、耐水性优异、而且兼有加热时的低聚物析出抑制性的叠层薄膜。
搜索关键词: 薄膜
【主权项】:
1.一种叠层薄膜,其特征在于,是在热塑性树脂薄膜的至少一面上,设置有含有组合物(A)、环氧系交联剂(B)、具有碳数为18~25的烷基链的丙烯酸系树脂(C)而形成的叠层膜的叠层薄膜,组合物(A)为至少含有聚噻吩和聚阴离子的组合物和/或含有聚噻吩衍生物和聚阴离子的组合物;并且,在叠层膜中,相对于组合物(A)和交联剂(B)和/或其反应生成物的合计100重量份,含有15~100重量份的具有碳数为18~25的烷基链的丙烯酸系树脂(C);并且,该叠层薄膜的至少一面的3维中心线平均粗糙度(SRa)为3~50nm;并且,在该叠层薄膜中所含有的平均粒径为100μm以上的内部异物不足10个/m2。
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