[发明专利]空间光调制器阵列和制造空间光调制器设备的方法无效
| 申请号： | 200580038200.5 | 申请日： | 2005-11-03 |
| 公开（公告）号： | CN101057184A | 公开（公告）日： | 2007-10-17 |
| 发明（设计）人： | 马克·A.·德桑贝尔;米希尔·德容;安东尼厄斯·J.·M.·内利森;尼古拉斯·J.·A.·范费恩 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B26/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 王英 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 为了制造SLM设备，在基板(3)上安装空间光调制器(SLM)(2)，其中基板(3)的材料与要与基板(3)并置的SLM(2)的主要材料相同。特别地，硅基SLM(2)安装在硅基板(3)上。这就形成了SLM(2)阵列，其保持相对于SLM(2)的位置的高精确度和平面性。为了进一步提高平面性，优选通过焊接、使用焊接连接(20)的自对准效应在基板(3)上安装SLM(2)。 | ||
| 搜索关键词： | 空间 调制器 阵列 制造 设备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种制造空间光调制器阵列设备的方法，包括：在基板上安装空间光调制器的步骤，其中，所述基板的材料与要与所述基板并置的所述空间光调制器的主要材料相同。
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