[发明专利]荧光X射线分析方法及装置有效
| 申请号： | 200580013285.1 | 申请日： | 2005-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN1965228A | 公开（公告）日： | 2007-05-16 |
| 发明（设计）人： | 岩本洋;谷美幸;久角隆雄;岩田进裕;坂口悦美 | 申请（专利权）人： | 松下电器产业株式会社 |
| 主分类号： | G01N23/223 | 分类号： | G01N23/223 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 汪惠民 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 是对于放置在X射线照射室(7)上侧的试料台架(2)上的试料(1)，在自试料(1)上方关闭试料罩(6)而遮蔽围住试料(1)之后，对试料(1)的下面照射X射线而进行分析的荧光X射线分析方法，其中，在试料(1)放置在试料台架(2)上并关闭试料罩(6)的情况下，由试料罩检测机构(8)检测出试料罩(6)已关闭，就自动地从X射线源(3)照射X射线而开始进行分析。 | ||
| 搜索关键词： | 荧光 射线 分析 方法 装置 | ||
【主权项】：
1、一种荧光X射线分析方法，对由以可开闭方式安装在试料台架上的试料罩所覆盖的试料照射X射线，检测出由所述试料产生的荧光X射线，其特征在于，对所述试料罩的开闭状态进行判断，在所述试料罩已关闭的情况下，对所述试料开始照射X射线。
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