[实用新型]容积差施釉装置

摘要

本实用新型提供一种容积差施釉装置，其特征在于：包括上端敞口的回釉箱和施釉箱，其中施釉箱套装固定在回釉箱的底面上，两箱的底部连通，施釉箱的侧壁上设置有水平仪，施釉箱内设置有深度尺，其底部设置有高度可调的支座，回釉箱的底部设置有水平调节器。该装置由调整水平调节器配合水平仪观察，使施釉箱处于水平状态，调整支座高度配合深度尺，控制施釉的高度，施釉箱内釉液的液面距施釉箱顶口有一段距离，该距离要保证需要施釉的加工品浸入施釉箱内、底部触及支座，此时釉液要从施釉箱顶口溢出但又不至于使釉液从回釉箱内溢出。该装置减少了人为因素，保证施釉陶瓷产品的施釉高度一致，且工艺简单，易操作，生产效率高。

主权项

1、一种容积差施釉装置，其特征在于：包括上端敞口的回釉箱(1)和施釉箱(2)，其中施釉箱(2)套装固定在回釉箱(1)的底面上，两箱的底部连通，施釉箱(2)的侧壁上设置有水平仪(3)，施釉箱(2)内设置有深度尺(4)，其底部设置有高度可调的支座(5)，回釉箱(1)的底部设置有水平调节器(6)。