[发明专利]磁共振成像方法和磁共振成像线圈无效
申请号: | 200510065272.0 | 申请日: | 2005-04-15 |
公开(公告)号: | CN1682656A | 公开(公告)日: | 2005-10-19 |
发明(设计)人: | 藤本昌弘;佐藤健志 | 申请(专利权)人: | GE医疗系统环球技术有限公司 |
主分类号: | A61B5/055 | 分类号: | A61B5/055;G01R33/34 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 王岳;张志醒 |
地址: | 美国威*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 为了提供一种能够改善SNR(信号噪声比)的MRI线圈,使这种MRI线圈由一对多匝线圈20A和20B组成,所述一对多匝线圈20A和20B在x方向上跨在用于容纳受检对象的空间上而彼此面对放置,并且多匝线圈20A的匝心在(-y)方向上偏移,而多匝线圈20B的匝心在(+y)方向上偏移。 | ||
搜索关键词: | 磁共振 成像 方法 线圈 | ||
【主权项】:
1.一种MR成像方法,包括下述步骤:采用具有一对线圈的MRI线圈,所述一对线圈跨在用于容纳受检对象的空间上而彼此面对放置,所述线圈中的至少一个是多匝线圈。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于GE医疗系统环球技术有限公司,未经GE医疗系统环球技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200510065272.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。