[发明专利]一种细缝式涂布装置无效
| 申请号： | 200510063276.5 | 申请日： | 2005-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN1843636A | 公开（公告）日： | 2006-10-11 |
| 发明（设计）人： | 柯山文;陈重廷;顾鸿寿;刘昱庭;张岳维;陈志行 | 申请（专利权）人： | 展茂光电股份有限公司 |
| 主分类号： | B05C5/02 | 分类号： | B05C5/02;B05C11/10 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 任默闻 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种细缝式涂布装置适用在基材上涂布均匀膜层。该细缝式涂布装置包含基座、细缝式涂布喷嘴、可挠曲垫片及滚轮装置。细缝式涂布喷嘴位于基座上方。当涂布工艺开始执行时，将可挠曲垫片覆盖在基材的两侧，并使细缝式涂布喷嘴将涂布开始与涂布结束时的不均匀膜层分别涂布在两个可挠曲垫片上，从而使均匀膜层被涂布在基材上。可挠曲垫片通过滚轮装置驱动而变更为可挠曲垫片其它未受污染的区域。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 细缝 式涂布 装置 | ||
【主权项】：
1.一种细缝式涂布装置，适用于在基材上涂布均匀膜层，其特征是，所述的涂布装置至少包含：一基座，承载一基材；一细缝式涂布喷嘴，位于基座上方；两滚轮装置，位于基座两侧；以及可挠曲垫片，覆盖在所述的基材两侧，并使所述的细缝式涂布喷嘴在涂布开始与涂布结束时，将不均匀膜层分别涂布在两个所述的可挠曲垫片上，从而使均匀的膜层被涂布在所述的基材，其中所述的可挠曲垫片是通过所述的滚轮装置驱动而变更为所述的可挠曲垫片的其它未被污染的区域。
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