[发明专利]采用微光刻技术制作缩微汉字的方法无效

专利信息
申请号: 200510011686.5 申请日: 2005-05-09
公开(公告)号: CN1687846A 公开(公告)日: 2005-10-26
发明(设计)人: 侯德胜;赵泽宇;刘强 申请(专利权)人: 中国科学院光电技术研究所
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京科迪生专利代理有限责任公司 代理人: 刘秀娟;成金玉
地址: 610209*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 采用微光刻技术制作缩微汉字的方法,利用微光刻技术中的光刻掩模制作工艺,首先通过计算机输入汉字,再用光刻掩模制版设备将缩微汉字图案曝光到匀胶铬版上,然后经过显影、腐蚀、去胶等工艺,在铬版上形成缩微汉字图案。此技术突破了现有汉字缩微技术的极限,使制作的缩微汉字的字高尺寸可以小到16微米以下,在1平方毫米的面积内可以容纳数千个以上的汉字,还可以用已有模压技术复制所制作的缩微汉字,本发明可用于制作缩微文字和缩微图案的工艺品及防伪标识等,具有独特新颖,使制作的缩微汉字尺寸大为缩小,并且制作精度很高的优点。
搜索关键词: 采用 微光 技术 制作 缩微 汉字 方法
【主权项】:
1、采用微光刻技术制作缩微汉字的方法,其特征在于主要包括以下制作步骤:(1)用计算机输入要缩微的汉字,排列好各个汉字的位置,并缩小到所需的尺寸;(2)将计算机绘制的缩微汉字图案文件拷入激光直写系统或电子束曝光机等高精度光刻掩模制版设备的控制计算机中;(3)用光刻掩模制版设备,在计算机控制下,按照输入的缩微汉字图案对匀胶铬版或光刻胶版上的光刻胶膜层进行曝光;(4)将曝光完成的匀胶铬版或光刻胶版放入显影液中进行显影,在光刻胶膜层上形成缩微汉字图案;(5)将显影后的匀胶铬版或光刻胶版放入铬腐蚀液中进行腐蚀,在铬膜层上形成缩微汉字图案;(6)将腐蚀后的匀胶铬版或光刻胶版放入去胶液中,去除上面残留的所有光刻胶,再清洗干净,得到载有所制作的缩微汉字图案的铬版。
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