[发明专利]确定电介质层厚度的方法和装置无效
| 申请号： | 200480010288.5 | 申请日： | 2004-04-14 |
| 公开（公告）号： | CN1774610A | 公开（公告）日： | 2006-05-17 |
| 发明（设计）人： | P·马希 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G01B7/06 | 分类号： | G01B7/06 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘红;梁永 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 根据本发明的确定电介质层厚度的方法包括以下步骤：提供具有电介质层(13)的导电体(11)，该电介质层(13)被至少另一个电介质层(3)从导电体(11)分离，电介质层(13)的一个表面(15)被暴露。淀积电荷到暴露的表面(15)，进而在暴露的表面(15)和导电体(11)之间产生电势差。确定与该电势差有关的电参数，并且执行测量以获得与电介质层(13)和/或另一个电介质层(3)的厚度有关的附加测量数据。通过这种方法，电介质层(13)和/或另一个电介质层(3)的厚度被确定。制造电子设备(100)的方法包括确定电介质层厚度的这种方法。确定电介质层厚度的装置(10)用来执行该方法。 | ||
| 搜索关键词： | 确定 电介质 厚度 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种确定电介质层厚度的方法，该方法包括以下步骤：提供具有电介质层(13)的导电体(11)，该电介质层(13)被至少另一个电介质层(3)从导电体(11)分离，电介质层(13)的一个表面(15)被暴露，淀积电荷到暴露的表面(15)，进而在暴露的表面(15)和导电体(11)之间产生电势差，该电势差是电介质层(13)厚度和至少另一个电介质层(3)厚度的函数，确定与该电势差有关的电参数，和执行测量，以获得测量数据，该测量数据是至少另一个电介质层(3)厚度的函数，该电介质层厚度选自电介质层(13)厚度和至少另一个电介质层(3)厚度，以及从该电参数和测量数据推算电介质层厚度。
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