[发明专利]计算机模拟光刻工艺的参数拟合方法

摘要

本发明公开了一种计算机模拟光刻工艺的参数拟合方法，包括如下步骤：计算并拟合能量阀值的模拟参数，包括使用Dill模型进行感光过程模拟；继续使用Dill模型进行曝光过程模拟；使用Mack模型进行湿法显影的过程模拟；进行PEB物理扩散过程模拟；评估参数并在需要时调整参数重新计算直至参数调节完毕。计算并拟合对比度曲线，包括使用Dill模型进行感光过程模拟；继续使用Dill模型进行曝光过程模拟；使用Mack模型进行湿法显影的过程模拟；评估曲线并在需要时调整参数重新计算直至参数调节完毕。本发明的计算机模拟光刻工艺的参数拟合方法能够将多种不同模型的参数加以拟合，以达到计算机模拟光刻工艺的最佳效果。

主权项

1.一种计算机模拟光刻工艺的参数拟合方法，包括如下步骤：计算并拟合能量阀值的模拟参数：a.输入感光胶感光前的吸收系数A、感光胶感光后的吸收系数B和光敏量子效率系数Cj的初始值，使用Dill模型进行感光过程模拟；b.输入曝光参数Eo，继续使用Dill模型进行曝光过程模拟；c.输入Mth、Rmin、Rmax和n参数的值，使用Mack模型进行湿法显影的过程模拟；d.输入光敏剂光照后浓度参数M和光敏剂扩散系数D，进行PEB物理扩散过程模拟；e.评估所述参数，如需要再次拟合参数的话使用公式Cj＝Cj-1*(1+ΔE/Eo*0.618)计算新的参数Cj并重复上述的步骤a-d直至参数调节完毕；计算并拟合对比度曲线：f.输入感光胶感光前的吸收系数A、感光胶感光后的吸收系数B和光敏量子效率系数Cj的初始值，使用Dill模型进行感光过程模拟；g.输入曝光参数Eo，继续使用Dill模型进行曝光过程模拟；h.输入Mth、Rmin、Rmax和n参数的值，使用Mack模型进行湿法显影的过程模拟；i.评估所述曲线，如需要再次拟合曲线的话使用新的参数Mth并重复上述的步骤f-h直至曲线调节完毕。