[发明专利]无尘室系统无效
| 申请号： | 200410049801.3 | 申请日： | 2004-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN1577721A | 公开（公告）日： | 2005-02-09 |
| 发明（设计）人： | 金东汉 | 申请（专利权）人： | LG.飞利浦LCD有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/00 | 分类号： | H01L21/00;G02F1/13 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 陈坚 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种无尘室系统。该无尘室包括多个多级无尘室和空气通道。该多个多级无尘室至少具有下层无尘室和位于其上的上层无尘室。该空气通道允许空气在该上层无尘室和该下层无尘室之间流动并且使气流平稳。 | ||
| 搜索关键词： | 无尘室 系统 | ||
【主权项】：
1、一种无尘室系统，包括：多个多级无尘室，它们至少具有下层无尘室和设置在该下层无尘室之上的上层无尘室；以及空气通道，其设置成允许空气在该上层无尘室和该下层无尘室之间流动并且使气流平稳。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
