[发明专利]配向膜平台、配向膜制程及配向膜制程设备有效
| 申请号： | 200410048903.3 | 申请日： | 2004-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN1584711A | 公开（公告）日： | 2005-02-23 |
| 发明（设计）人： | 何岳暾;张景雄 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 任永武 |
| 地址： | 台湾省新竹科学*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种配向膜平台与配向膜制程，其中，配向膜平台具有一承载部设置于一座体上。一配向膜放置于承载部之上，承载部的面积小于座体的面积。且于座体的承载部外缘，则设置有集污结构。 | ||
| 搜索关键词： | 平台 膜制程 设备 | ||
【主权项】：
1.一种配向膜平台，其特征在于包含：一座体，其上具有一承载部，且该承载部的面积小于该座体的面积；以及一集污结构，位于该座体上的该承载部外缘。
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