[发明专利]非易失浮栅存储单元及其阵列以及其形成方法有效

专利信息
申请号: 200410033397.0 申请日: 2004-04-07
公开(公告)号: CN1538525A 公开(公告)日: 2004-10-20
发明(设计)人: B·陈;J·弗雷尔;D·李 申请(专利权)人: 硅存储技术公司
主分类号: H01L27/105 分类号: H01L27/105;H01L27/115;G11C14/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 吴立明;张志醒
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 双向读取/编程非易失存储单元和阵列能实现高密度。每个存储单元具有两个隔开的浮栅,用于在其上存储电荷。该单元具有隔开的源/漏区,其间具有沟道,该沟道具有三个部分。其中一个浮栅位于第一部分上;另一浮栅位于第二部分上,栅电极控制第一和第二部分之间的第三部分中的沟道的导电。控制栅被连接到源/漏区的每一个上,并且还容性耦合到浮栅。该单元通过热沟道电子注入而编程,并通过电子从浮栅到栅电极的Fowler-Nordheim遂穿来擦除。双向读取允许该单元被编程以存储位,其中每个浮栅中有一个位。
搜索关键词: 非易失浮栅 存储 单元 及其 阵列 形成 方法
【主权项】:
1、一种用于存储多个位的非易失存储单元,包括:第一导电类型的基本上单晶半导体材料;在所述材料中的第二导电类型的第一区,该第二导电类型不同于所述第一导电类型;与所述第一区隔开的、在所述材料中的所述第二导电类型的第二区;具有第一部分、第二部分和第三部分的沟道区,连接所述第一区和第二区用于传导电荷;在所述沟道区上的电介质;在所述电介质上的第一浮栅,它与所述沟道区的所述第一部分隔开;所述沟道区的所述第一部分与所述第一区相邻,所述第一浮栅用于存储所述多个位的中至少一个位;在所述电介质上的第二浮栅,它与所述沟道区的所述第二部分隔开;所述沟道区的所述第二部分与所述第二区相邻,所述第二浮栅用于存储所述多个位中的至少另一个位;在所述电介质上并与所述沟道区的所述第三部分隔开的栅电极,所述沟道区的所述第三部分位于所述第一部分和所述第二部分之间;电连接到所述第一区并容性耦合到所述第一浮栅的第一栅电极;和电连接到所述第二区并容性耦合到所述第二浮栅的第二栅电极。
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