[发明专利]高重复频率准分子激光系统无效
| 申请号： | 02809067.5 | 申请日： | 2002-03-01 |
| 公开（公告）号： | CN1524323A | 公开（公告）日： | 2004-08-25 |
| 发明（设计）人： | M·A·佩尔;C·M·史密斯;P·M·特恩;R·W·斯派罗 | 申请（专利权）人： | 康宁股份有限公司 |
| 主分类号： | H01S3/08 | 分类号： | H01S3/08 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 李家麟 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明发明了一种重复频率≥4kHz的氟化氩准分子激光器系统，可以产生波长为193nm的紫外激光输出。重复频率≥4kHz氟化氩准分子激光器系统包括一个氟化氩准分子激光谐振腔，产生重复频率≥4kHz的193nm的光子流。重复频率≥4kHz的氟化氩准分子激光谐振腔包括氟化镁晶体光学窗口，用来在重复频率≥4kHz的193nm的输出情况下输出重复频率≥4kHz的193nm的光子流，之所以用氟化镁晶体光学窗口输出重复频率≥4kHz的准分子193nm激光，是因为此种氟化镁晶体若曝光于能流密度≥40mj/cm2/脉冲的193nm激光下五百万次脉冲，它将具有小于0.08Abs/42mm的255nm感生吸收。并且42mm的晶体120nm的透射率至少为30％。 | ||
| 搜索关键词： | 重复 频率 准分子激光 系统 | ||
【主权项】：
1.一种重复频率≥4kHz的氟化氩准分子激光系统，用来产生波长为193nm的紫外激光输出，所述的激光系统包括：氟化氩准分子激光谐振腔，所述的准分子激光谐振腔用来产生重复频率≥4kHz的193nm光子流，所述的氟化氩准分子激光谐振腔包括至少一个氟化镁晶体光学窗口，用来在重复频率≥4kHz的准分子激光193nm的输出情况下，所述的193nm光子流，所述的氟化镁晶体光学窗口若曝光于能流密度≥40mj/cm2/脉冲的193nm激光下五百万次脉冲，它将具有小于0.08Abs/42mm的255nm感生吸收，并且42mm晶体120nm的透射率至少为30％。
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