[发明专利]除涂层的方法、制备再生镁合金的方法和再生涂料的方法有效
| 申请号： | 02157102.3 | 申请日： | 2002-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN1465747A | 公开（公告）日： | 2004-01-07 |
| 发明（设计）人： | 西井耕太;木村浩一 | 申请（专利权）人： | 富士通株式会社 |
| 主分类号： | C23G1/14 | 分类号： | C23G1/14;C23G1/22;C22B7/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 孙爱 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种从带涂层的Mg合金产品中脱除涂层的方法。本方法包括将带涂层的镁合金产品浸渍到第一碱性溶液的第一处理步骤；和将已经第一处理步骤的镁合金产品浸渍到第二碱性溶液或酸溶液的第二处理步骤，第二碱性溶液不同于第一碱性溶液。 | ||
| 搜索关键词： | 涂层 方法 制备 再生 镁合金 涂料 | ||
【主权项】：
1.一种从带涂层的Mg合金产品中脱除涂层的方法，该方法包括：将带涂层的镁合金产品浸渍到第一碱性溶液的第一处理步骤；和将已经第一处理步骤的镁合金产品浸渍到第二碱性溶液或酸溶液的第二处理步骤，第二碱性溶液不同于第一碱性溶液。
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