[发明专利]级联式体全息光栅密集波分复用器件制作方法及其系统无效

专利信息
申请号: 02155429.3 申请日: 2002-12-13
公开(公告)号: CN1424829A 公开(公告)日: 2003-06-18
发明(设计)人: 陶世荃;王大勇;江竹青;谢玉斌 申请(专利权)人: 北京工业大学
主分类号: H04J14/02 分类号: H04J14/02;G02B5/18;G02B6/26
代理公司: 北京工大思海专利代理有限责任公司 代理人: 张慧
地址: 100022 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 级联式体全息光栅密集波分复用器件制作方法及其系统,属于光通信技术领域。特征为:把全息记录介质分成不同的空间子区域,每个子区域记录一个至四个体全息光栅,所有的体光栅的光栅矢量方向均与端面成45度角,而光栅矢量的大小各不相同。同时短波长记录光栅时,是在介质的顶面和侧面(垂直于输入和输出端面)进行,即写入光束所在的平面与输入-输出光束组成的平面互相垂直。保证了输入通道与输出通道夹角为90度,所有波长的输出通道均相互平行,可提供最高的衍射效率。采用二维耦合波理论对光栅的衍射效率和波长选择性进行优化;通过掩膜或不均匀擦除,抑制了输出通道之间的串扰;并经热固定或光固定,消除体光栅的易失性,延长光栅的使用寿命。
搜索关键词: 级联 全息 光栅 密集 波分复用 器件 制作方法 及其 系统
【主权项】:
1、级联式体全息光栅密集波分复用器件制作方法,包括有具有波长滤波功能的衍射光学元件本质上是光学方法制作的体积全息图,即:使两束相干的平面光波在全息记录介质的内部相交,形成明暗交替的干涉条纹平面;记录介质对光照的强度敏感,产生与光强度成比例的折射率变化,从而形成位相型体光栅,本发明的特征在于:①把体全息记录介质分成不同的空间子区域,每个空间子区域记录一个至四个体全息光栅,所有的体全息光栅的光栅矢量方向均与端面成45度角,而光栅矢量的大小各不相同;②采用在体全息记录介质表面放置开有孔的掩膜,使光只对孔限定的区域曝光,完成记录形成的光栅;③用短波长记录体全息光栅时是在介质的顶面和侧面(垂直于输入和输出端面)进行,即写入光束所在的平面与输入-输出光束组成的平面互相垂直;④采用二维耦合波理论对体全息光栅的衍射效率和波长选择性进行优化;⑤光栅记录完成后,在记录介质的前面放置空间光调制器(24),将此光调制器(24)紧靠体全息记录介质(11),按通常遮光率的概念、但使其按sinc2函数变化,然后用均匀紫外光照射进行擦除。经这种非均匀擦除后,得到空间调制度为sinc2函数分布的光栅。⑥最后对体全息光栅进行热固定,或采用双色记录的方法在记录的同时实现光固定。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京工业大学,未经北京工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/02155429.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top