[发明专利]基于模式图的纹理特征表示方法有效
| 申请号： | 02142419.5 | 申请日： | 2002-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN1484200A | 公开（公告）日： | 2004-03-24 |
| 发明（设计）人： | 陈延伟;曾湘燕;卢汉清 | 申请（专利权）人： | 中国科学院自动化研究所 |
| 主分类号： | G06T5/50 | 分类号： | G06T5/50 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 戎志敏 |
| 地址： | 100080北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种基于模式图的纹理特征表示方法，包括步骤：对原图像的每个像素取其5*5的领域块b；设有M个反映图像灰度梯度变化的模板，其中，M是大于1的正整数；计算M个模板和b的内积；用内积最大的模板的编号作为这一像素在模式图的输出值。本发明的特征统计量的计算时间比常规方法要短的多，而且本发明去除了图像中光照的影响，只要光照在一定范围内是均匀的，即使在广域上有不同的光照，模式图也不受影响。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 模式 纹理 特征 表示 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基于模式图的纹理特征表示方法，包括步骤：对原图像的每个像素取其5*5的领域块b；设有M个反映图像灰度梯度变化的模板，其中，M是大于1的正整数；计算M个模板和b的内积；用内积最大的模板的编号作为这一像素在模式图的输出值。
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