[发明专利]镜面板抛光装置及镜面板抛光装置的整平方法无效
| 申请号： | 02140537.9 | 申请日： | 2002-07-09 |
| 公开（公告）号： | CN1467052A | 公开（公告）日： | 2004-01-14 |
| 发明（设计）人： | 方裕贤;吕燕堂;谢治洪 | 申请（专利权）人： | 精碟科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B39/06 | 分类号： | B24B39/06;B24B49/12 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 刘朝华 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种镜面板抛光装置及镜面板抛光装置的整平方法，它包含抛光台枢接于基座之上，以承载镜面板，并将镜面板抛光；整平器是设置于抛光台的上方，通过接触研磨方式整平抛光台；雷射干涉侦测器是设置于抛光台的一侧，其是产生照射镜面板的雷射光，并利用其反射光来侦测镜面板的平坦度；限制工件是设置于抛光台之上，以限定镜面板的抛光位置。镜面板抛光装置的整平方法包含：抛光步骤：是将镜面板置于抛光台上进行抛光；侦测步骤：是以雷射干涉侦测器侦测镜面板的平坦度；整平步骤：是根据镜面板的平坦度进行抛光台的整平。具有高精准度、延长使用寿命及降低制造成本的功效。 | ||
| 搜索关键词： | 面板 抛光 装置 平方 | ||
【主权项】：
1、一种镜面板抛光装置，其特征是：它包含有抛光台是枢接于基座之上，以承载镜面板，并将该镜面板抛光；整平器是设置于该抛光台的上方，并通过接触研磨方式整平该抛光台；雷射干涉侦测器，是设置于该抛光台的一侧，其是产生一照射该镜面板的雷射光，并利用其反射光来侦测该镜面板的平坦度；限制工件是设置于该抛光台之上，以限定该镜面板的抛光位置。
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