[发明专利]一种化学机械研磨浆料组成无效
| 申请号： | 02131650.3 | 申请日： | 2002-09-12 |
| 公开（公告）号： | CN1410501A | 公开（公告）日： | 2003-04-16 |
| 发明（设计）人： | 胡绍中;蔡腾群;许嘉麟 | 申请（专利权）人： | 联华电子股份有限公司 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 刘朝华 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种化学机械研磨浆料组成。包含有一研磨粒成分金属氧化物、预定浓度的溶解态臭氧及添加剂，浆料组成的pH值介于1－10之间。通过臭氧作为CMP研磨浆料的氧化剂，具有较佳的氧化力，且可避免传统氧化剂易污染芯片表面或改变浆料pH值，具有较佳的研磨效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械 研磨 浆料 组成 | ||
【主权项】：
1、一种化学机械研磨浆料组成，其特征是：它包含有：氧化铝成分、预定浓度的溶解态臭氧及添加剂；该浆料组成的pH值介于1-10之间。
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