[发明专利]带有沟槽结构的光波导无效
| 申请号： | 01819132.0 | 申请日： | 2001-10-15 |
| 公开（公告）号： | CN101052906A | 公开（公告）日： | 2007-10-10 |
| 发明（设计）人： | L·C·基默林;K·瓦达;H·A·豪斯;M·波波维奇;S·阿基亚马 | 申请（专利权）人： | 马萨诸塞州技术研究院 |
| 主分类号： | G02B6/125 | 分类号： | G02B6/125;G02B6/132 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 李家麟 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 用空气沟槽包覆层的配置能将拖尾减到最小以抑制光耦合到辐射模式，产生低损耗弯头和分离器。用这样的空气沟槽包覆层提供包括没有传输损耗的急剧弯头和T－分离器，没有串话的交叉以及来自/通向光纤和没有实质损耗的平面外波导的耦合器在内的结构。波导的空气沟槽侧壁包覆层将拖尾推向顶部和底部包覆层以增强垂直定位的波导之间的耦合。也提供了应用晶片黏结技术的制造工艺。 | ||
| 搜索关键词： | 带有 沟槽 结构 波导 | ||
【主权项】：
1.一种波导配置，其特征在于，该配置包括：一个具有从底部表面向顶部表面延伸的第一和第二侧壁的核心区域；和所述核心区域相邻的第一和第二沟槽区域，该沟槽区域分别纵向沿所述第一和第二侧壁延伸，并且在所述顶部和底部表面的上下垂直延伸一个预先确定的深度，所述深度大于在所述核心传播的光的拖尾的长度；和一个包围所述核心区域和沟槽区域的包覆区域。
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