[发明专利]光刻制版激光器的处理监视系统无效

专利信息
申请号: 01805136.7 申请日: 2001-02-05
公开(公告)号: CN1401103A 公开(公告)日: 2003-03-05
发明(设计)人: P·S·帕特尔;J·E·康韦;M·坦特;J·W·莫恩;J·R·卡莱斯;R·L·格林;T·A·沃森;C·G·罗恩 申请(专利权)人: 西默股份有限公司
主分类号: G06F15/00 分类号: G06F15/00;H01S3/00
代理公司: 上海专利商标事务所 代理人: 钱慰民
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种至少位于一个集成电路制造厂的光刻制版激光器(2)监视系统。各制造厂的各激光器(2)与一个终端服务器(6)关联。对各制造厂而言,中央控制服务器单元(8)通过局域网(7)与各激光器(2)通信。中央控制服务器单元(8)收集来自激光器(2)的信息,并用该信息对有访问权的关注方提供以网站格式可得的摘要信息。
搜索关键词: 光刻 制版 激光器 处理 监视 系统
【主权项】:
1.一种光刻制版激光器监视系统,位于至少一个集成电路制造厂,所述系统,其特征在于包含:(A)多个激光器,各激光器配置成在集成电路光刻制版工序中用作照明源;(B)与所述多个激光器的每一个关联的终端服务器;(C)通过局域网与所述多个激光器的每一个通信的中央制造厂服务器单元,对所述中央制造厂单元编程,以捕获来自各所述激光器的数据,并且用原始形式和/或摘要形式存储至少部分该数据;(D)第2服务器单元,该单元通过所述第1服务器单元与有权访问所述第1服务器单元存储的信息的人员所用计算机之间的通信网提供通信。
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