[发明专利]具有酸反应性基团的新颖含氟聚合物以及使用这些材料的化学增幅型光刻胶组合物

摘要

提供一种对真空紫外区(157nm)能量射线(射线)透明性高、具有酸反应性基团的新颖含氟聚合物，以及使用它作光刻胶用的含氟基础聚合物，使用这些材料的化学增幅型光刻胶组合物。由式－(M1)－(M2)－(A)(式中，M1是具有酸解离性或酸分解性官能团的结构单元，M2是含氟丙烯酸酯结构单元，A是来源于其他能共聚单体的结构单元)表示的，其中含有1～99摩尔％结构单元M1，1～99摩尔％结构单元M2及0～98摩尔％结构单元A，M1/M2为1～99/99～1摩尔％且数均分子量为1,000～1,000,000的含氟聚合物，或者含有该聚合物等带酸反应性基团的含氟聚合物的、适于光刻胶用含氟基础聚合物用材料，使用这些材料的化学增幅型光刻胶组合物。

主权项

1、一种式(1)表示的含氟聚合物，式I-(1)-(M1)-(M2)-(A1)    I-(1)(式中，M1是M2是(式中，X1、X2、X4、X5相同或不同，是H或F；X3、X6相同或不同，是H、Cl、CH3、F或CF3；Y1是酸解离性或酸分解性官能团；R1表示碳原子数1～20的二价烃基、碳原子数1～20的含氟亚烷基、碳原子数2～100的具有醚键的含氟亚烷基或碳原子数3～20的含氟亚芳基；Rf1表示碳原子数1～20的含氟烷基、碳原子数2～100的具有醚键的含氟烷基或碳原子数3～20的含氟芳基；n1为0或1)，A1是源于能与结构单元M1、M2共聚单体的结构单元)当M1+M2＝100摩尔％时，M1/M2为1～99/1～99(摩尔％)，其中含有1～99摩尔％结构单元M1、1～99摩尔％结构单元M2和0～98摩尔％结构单元A1、其数均分子量为1,000～1,000,000。