[发明专利]交替式相移光罩及其解除光罩以及接触洞的制造方法

摘要

本发明揭露一种交替式相移光罩(AlternatingPhase－ShiftingMask；AltPSM)及其相对应的解除光罩(UnpackingMask)，以及利用构装的交替式相移光罩与解除光罩，以构装及解除(PackingAndUnpacking；PAU)的方式来制造接触洞(ContactHole)。由交替式相移光罩的使用，可增加聚焦深度(DepthOfFocus；DOF)，并降低光罩误差系数(MaskErrorFactor；MEF)，而构装及解除法亦可缩小洞与洞的分离率(Hole－to－separationRatio)，进而达到提高聚焦深度及降低光罩误差系数的目的。

主权项

1.一种交替式相移光罩，适用于制造复数个接触洞，其特征在于，其中该交替式相移光罩至少包括：一背景；复数个接触洞图案位于该背景上；以及复数个填充洞图案位于该背景上，且该些填充洞图案包围住每一该些接触洞图案，其中该些填充洞图案与相邻的该些接触洞图案具有一相位差，且该些填充洞图案与相邻的该些接触洞图案之间具有一预设距离。