[发明专利]集成电路的多层基板及其介层孔排列方法无效

专利信息
申请号: 01129364.0 申请日: 2001-06-13
公开(公告)号: CN1391272A 公开(公告)日: 2003-01-15
发明(设计)人: 吴忠儒;施嘉文;蔡进文;林蔚峰 申请(专利权)人: 矽统科技股份有限公司
主分类号: H01L23/12 分类号: H01L23/12;H01L23/48;H01L21/50;H01L21/98
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 穆魁良
地址: 台湾省新*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明公开了一种集成电路的多层基板及其介层孔排列方法,适用于一具有连接薄垫的晶片,该多层基板包括一第一及第二层板;第一层板表面铺设有与该连接薄垫电性接触的导线,使该晶片在操作时于该些导线中产生电流;第二层板表面铺设有一导电薄板以及穿越该第二层板与该导电薄板的介层孔,该晶片作用时,该导电薄板与一接地点电性连接,第一层板上导线中的电流于导电薄板中感应产生相对的镜射电流,本发明将该介层孔排列成辐射状,使每一镜射电流的路径均与该接地点连通,从而避免杂讯的产生。
搜索关键词: 集成电路 多层 及其 介层孔 排列 方法
【主权项】:
1.一种集成电路的多层基板,该多层基板至少包含:一可镶嵌一晶片的第一层板;一第二层板,表面铺设有一导电薄板以及复数个穿越该第二层板和该导电薄板的介层孔;该导电薄板与一接地环电性接触;该复数个介层孔由内而外至少分为三层:即复数个第一介层孔、复数个第二介层孔、和复数个第三介层孔,该复数个第一介层孔与所述导电薄板电性连接,该复数个第二介层孔及复数个第三介层孔与所述导电薄板绝缘;一第三层板;一第四层板;其特征是:其中上述的复数个第二介层孔呈幅射状排列。
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