[发明专利]用于处理玻璃基片或晶片的电子回旋共振除灰装置无效
| 申请号： | 01124820.3 | 申请日： | 2001-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN1343000A | 公开（公告）日： | 2002-04-03 |
| 发明（设计）人： | 朴庸硕;裵禹庆 | 申请（专利权）人： | 株式会社D.M.S |
| 主分类号： | H01L21/30 | 分类号： | H01L21/30;G02F1/13;H01L21/3065;H01L21/84 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 李晓舒 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 一种ECR除灰装置,包括除灰室,在其一侧设置有玻璃基片或晶片的插入口、除灰气体的排气口和供气部件下电极,在所述除灰室中,下电极上安装有玻璃基片或晶片,其中光阻材料施加到玻璃基片或晶片上;RF电源,用于对所述下电极提供电源;ECR源,包括微波产生部件、波导管、等离子体放电室和磁线圈,用于在所述除灰室中形成等离子体;电源,用于对所述ECR源提供电源;和扫描单元,用于驱动所述ECR源前后或左右移动。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 处理 玻璃 晶片 电子 回旋 共振 装置 | ||
【主权项】：
1.一种除灰装置，包括：除灰室，在其一侧设置有处理对象用的插入口、除灰气体的排气口和供气部件；下电极，在所述除灰室中，下电极上安装有处理对象，其中光阻材料施加到处理对象上；RF电源，用于对所述下电极提供电源；ECR源，包括微波产生部件、波导管、等离子体放电室和磁线圈，用于在所述除灰室中形成等离子体；电源，用于对所述ECR源提供电源；和扫描单元，用于驱动所述ECR源前后或左右移动。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
