[发明专利]降低光学邻近效应的方法有效
| 申请号： | 01110413.9 | 申请日： | 2001-04-03 |
| 公开（公告）号： | CN1378102A | 公开（公告）日： | 2002-11-06 |
| 发明（设计）人： | 蔡高财;王立铭 | 申请（专利权）人： | 华邦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 程伟 |
| 地址： | 中国*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种校正光学邻近效应方法,它利用将一母光罩依其疏密程度的不同而切割成多个子光罩,再针对每一种疏密程度下子光罩所能达到的理想临界尺寸,而给予如光圈孔径、曝光能量等条件,再依序透过等子光罩对光阻进行曝光动作,达到将一光罩图案忠实地转移至光阻层上的目的,不但改善了邻近效应所造成的问题,且并不会受限缩小组件图案的线宽,极具发展潜力。 | ||
| 搜索关键词： | 降低 光学 邻近 效应 方法 | ||
【主权项】：
1.一种降低光学邻近效应方法，适用于已区分出线路图案的疏密程度的组件设计，包括下列步骤：提供多个光罩；以及将该线路图案形成于该等光罩上，且图案疏密程度类似者是位于同一片光罩上。
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