[发明专利]适用于生成亚微米级宽金属线图案的制法

摘要

本发明涉及在底材上提供图案的方法用在金属解除法中,此方法包括1)用液体正性光刻胶涂布底材,2)将涂布的底材进行软烘烤,3)将该底材与含约0.005%体积—0.05%体积的亚烷基二醇烷基醚的碱性显影剂水溶液接触,4)将有图案的掩模放在底材上,5)经过掩模将底材曝光,6)将底材进行后曝光烘烤,7)任选地,将底材进行充分曝光,8)用碱性显影剂水溶液将底材显影。本发明还涉及含约0.005－0.5%体积的亚烷基二醇烷基醚的新的氢氧化铵显影剂溶液,以及涉及这种新显影剂溶液的制造方法。

主权项

1.适用于在适宜的底材上生成亚微米宽度金属线的适宜的底材上制造图案的方法，此方法包括：1)在底材上涂布一层液体正性光刻胶，2)将步骤1得到的涂布的底材软烘烤，以从光刻胶层中基本上除去光刻胶溶剂，3)将步骤2得到的软烘烤过的涂布的底材上的光刻胶层与含约0.005％体积-0.5％体积的C1-C4亚烷基二醇C1-C4烷基醚的碱性显影剂水溶液接触。4)将含图案的掩模置于步骤3软烘烤过的涂布的底材上的光刻胶层上方；5)将步骤3软烘烤过涂布的底材上的光刻胶部分经步骤4的掩模曝光于光化射线下，6)将步骤5的软烘烤过的涂布的底材上的光刻胶层进行后曝光烘烤，以及7)任选地，将步骤6的软烘烤涂布底材上的光刻胶层用光化射线充分曝光。8)将步骤6或7中的涂布过的底材上的光刻胶用碱性显影剂水溶液显影。