[发明专利]去除摄影材料中的污斑的方法无效
申请号: | 00804894.0 | 申请日: | 2000-03-02 |
公开(公告)号: | CN1343324A | 公开(公告)日: | 2002-04-03 |
发明(设计)人: | C·布利尔德;G·梅斯热;S·梅热尔特 | 申请(专利权)人: | 西巴特殊化学品控股有限公司 |
主分类号: | G03C1/815 | 分类号: | G03C1/815;G03C1/79;G03C7/30;G03C7/407;C07D251/68 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 杨九昌 |
地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 描述了一种去除摄影材料中的污斑的方法,该方法包括将至少一种式(I)的化合物掺入进摄影材料中,其中X是O或NH;n是1或2,p是0、1或2,M是氢、碱金属原子、铵或由胺形成的阳离子;各R1独立地是氨基酸残基,它的氨基上的一个氢原子被除去;各R2独立地是氢、C1-C8烷基、C1-C8烷氧基、卤素、氰基、COOR,其中R是氢或C1-C3烷基、CONH-R,其中R具有上述含义、SO2NH-R,其中R具有上述含义、NH-COR,其中R具有上述含义、或SO3M,其中M具有上述含义、或者如果n为1,R2也可以是CO-R3,其中R3是C1-C3烷基或苯基。 | ||
搜索关键词: | 去除 摄影 材料 中的 方法 | ||
【主权项】:
1.一种去除摄影材料中的污斑的方法,该方法包含将至少一种式(I)的化合物掺入摄影材料中其中X是O或NH;n是1或2,p是0、1或2,M是氢、碱金属原子、铵或由胺形成的阳离子;各R1独立为氨基酸残基,它的氨基上的一个氢原子被除去;各R2独立为氢、C1-C8烷基、C1-C8烷氧基、卤素、氰基、COOR,其中R是氢或C1-C3烷基、CONH-R,其中R具有其上述的含义,SO2NH-R,其中R具有其上述的含义,NH-COR,其中R具有其上述的含义,或SO3M,其中M具有其上述的含义,或者如果n为1,R2也可以是CO-R3,其中R3是C1-C3烷基或苯基。
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