[发明专利]处理基底的方法和装置有效
| 申请号： | 00803802.3 | 申请日： | 2000-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN1134310C | 公开（公告）日： | 2004-01-14 |
| 发明（设计）人： | P·德雷斯;K·阿皮希;P·克劳斯;J·塞克雷施;R·韦兴 | 申请（专利权）人： | 施蒂格哈马技术股份公司 |
| 主分类号： | B05C11/08 | 分类号： | B05C11/08;G03F7/16 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 苏娟;赵辛 |
| 地址： | 德国斯台*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 为了达到在基底上有均匀的涂层，本发明涉及的装置和方法是用于对基底进行涂层的，其中基底固定在一个基底座(5)上，从而使得待涂基底表面(15)裸露着，并使基底随基底座旋转，还有一个封盖(20)可以固定在基底座上，该封盖与基底座共同形成一个封闭的用于基底的腔室。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 基底 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.对基底(13)进行涂层的装置(1)，它有一个基底座(5)，基底就夹持在这盘座上，从而使待涂的基底表面(15)裸露着并指向下；它还有一个使基底座(5)转动的装置，其特征是有一个可以固定在基底座(5)上的封盖(20)，它与基底座(5)一起形成一个密封的安放基底(13)的腔室(36)。
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