[实用新型]氧化膜外延设备

摘要

本实用新型属于以强氧化剂和强还原剂为源生成氧化膜的外延设备。反应罩的上部有两个进气口,两个进气口分别连通气体源气路和液体源气路,在位于石英反应罩内的转台与两个进气口之间设有一块防止从气体源成液体源主路中进入的两路源气在反应室空间相遇的隔板,石英反应罩下端位于底座上,底座连通反应室腔并通过抽气管道与抽气泵相通,底座一侧还设有进样品窗口,底座上设使反应室腔内转杆转动的传动机构,两三通阀另一路相通热分解炉再相通抽气泵。

主权项

1、一种氧化膜的外延设备，由反应室、抽气泵、液体源和气体源所组成，其特征在于：反应罩的上部有两个进气口，两个进气口分别通过受送气时间电控箱控制的两个三通阀，一个压力控制器一个流量控制器分别连通气体源气路和液体源气路，在位于石英反应罩内的转台与两个进气口之间设有一块防止从气体源，或液体源主路中进入的两路源气在反应室空间相遇的隔板，石英反应罩下端位于底座上，底座连通反应室腔并通过抽气管道与抽气泵相通，底座一侧还设有进样品窗口，底座上设使反应室腔内转杆转动的传动机构，两三通阀另一路相通热分解炉再相通抽气泵。