[发明专利]一种用快速膨胀超临界溶液制造超细微粒的方法和装置无效
| 申请号： | 00124564.3 | 申请日： | 2000-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN1344578A | 公开（公告）日： | 2002-04-17 |
| 发明（设计）人： | 尹恩华 | 申请（专利权）人： | 保定市华宇新型电子材料有限公司 |
| 主分类号： | B01D9/02 | 分类号： | B01D9/02;B01D11/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 071051 河*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 在超临界状态下,用溶剂溶解需要粉碎的溶质,在一定温度、压力和溶剂流量条件下,经喷嘴快速膨胀,这时溶质在溶剂中的溶解度达到过饱和,形成超细微粒结晶。经过过滤溶剂排放,溶质沉析。用本方法制造的微粒粒度小、均匀、粒度分布窄,无溶剂残留,适于工业化生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 快速 膨胀 临界 溶液 制造 细微 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用快速膨胀超临界溶液制造超细微粒的方法，其特征是在超临界状态下，用溶剂溶解需要粉碎的溶质，在一定温度、压力和溶剂流量条件下，经喷嘴快速膨胀，这时被粉碎的溶质在溶剂中的溶解度达到过饱和，形成超细微粒结晶，经过滤后，溶剂排放，被粉碎的溶质沉析，即得超细微粒。
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