[发明专利]直线运行装置有效
申请号: | 00106591.2 | 申请日: | 2000-04-14 |
公开(公告)号: | CN1150380C | 公开(公告)日: | 2004-05-19 |
发明(设计)人: | 浅井豪;饭田和啓 | 申请(专利权)人: | SMC株式会社 |
主分类号: | F15B15/14 | 分类号: | F15B15/14 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 何腾云 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明公开了一种直线运行装置,其包括:基础件;直线导向机构,该导向机构沿其轴线方向固定在所述基础件上;滑动装置,该滑动装置可沿所述导向机构往复运动;驱动机构,所述驱动机构大致平行于所述导向机构的轴线,并可将直线运动传递给所述滑动装置;以及缓冲装置,所述缓冲装置可控制所述滑动装置的位移终点,并吸收作用在所述滑动装置上的冲击,所述缓冲装置设置在所述驱动机构的相对侧,且所述导向机构位于两者之间。该运行装置可克服现有技术中存在的无杆动力缸和导轨之间的间隔不可避免地增大的问题,使整个装置的尺寸缩小,产生的反作用力减小。 | ||
搜索关键词: | 直线 运行 装置 | ||
【主权项】:
1.一种直线运行装置,其包括:基础件(12);直线导向机构,该导向机构沿其轴线方向固定在所述基础件(12)上;滑动装置(20),该滑动装置可沿所述导向机构(16)往复运动;驱动机构(24),所述驱动机构大致平行于所述导向机构(16)的轴线,并可将直线运动传递给所述滑动装置(20);以及,缓冲装置(26a、26b),所述缓冲装置可控制所述滑动装置(20)的位移终点,并吸收作用在所述滑动装置(20)上的冲击,其特征在于:所述缓冲装置设置在所述驱动机构(24)的相对侧,且所述导向机构(16)位于两者之间。
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